Диоксид крСмния (SiO2) являСтся ΠΎΠ΄Π½ΠΈΠΌ ΠΈΠ· самых распространСнных соСдинСний Π² Π·Π΅ΠΌΠ½ΠΎΠΉ ΠΊΠΎΡ€Π΅, ΠΎΠ΄Π½Π°ΠΊΠΎ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ Π΅Π³ΠΎ Π² чистом Π²ΠΈΠ΄Π΅ для ΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ‹ΡˆΠ»Π΅Π½Π½Ρ‹Ρ… Π½ΡƒΠΆΠ΄ β€” Π·Π°Π΄Π°Ρ‡Π°, Ρ‚Ρ€Π΅Π±ΡƒΡŽΡ‰Π°Ρ Ρ‚ΠΎΡ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎ контроля химичСских процСссов. Π’ ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π»ΡƒΡ€Π³ΠΈΠΈ ΠΈ производствС ΡΠΏΠ΅Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… сплавов этот ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π» выступаСт Π½Π΅ просто ΠΊΠ°ΠΊ Π½Π°ΠΏΠΎΠ»Π½ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒ, Π° ΠΊΠ°ΠΊ критичСски Π²Π°ΠΆΠ½Ρ‹ΠΉ ΠΊΠΎΠΌΠΏΠΎΠ½Π΅Π½Ρ‚, Π²Π»ΠΈΡΡŽΡ‰ΠΈΠΉ Π½Π° рСологичСскиС свойства шлаков ΠΈ качСство ΠΊΠΎΠ½Π΅Ρ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΏΡ€ΠΎΠ΄ΡƒΠΊΡ‚Π°. ПониманиС Ρ‚ΠΎΠ³ΠΎ, ΠΊΠ°ΠΊ ΠΈΠΌΠ΅Π½Π½ΠΎ происходит синтСз диоксида крСмния, позволяСт ΠΈΠ½ΠΆΠ΅Π½Π΅Ρ€Π°ΠΌ ΠΎΠΏΡ‚ΠΈΠΌΠΈΠ·ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ тСхнологичСскиС Ρ†Π΅ΠΏΠΎΡ‡ΠΊΠΈ ΠΈ ΡΠ½ΠΈΠ·ΠΈΡ‚ΡŒ ΡΠ΅Π±Π΅ΡΡ‚ΠΎΠΈΠΌΠΎΡΡ‚ΡŒ производства.

БущСствуСт нСсколько ΠΏΡ€ΠΈΠ½Ρ†ΠΈΠΏΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎ Ρ€Π°Π·Π½Ρ‹Ρ… ΠΏΡƒΡ‚Π΅ΠΉ получСния этого соСдинСния: ΠΎΡ‚ простого мСханичСского обогащСния ΠΏΡ€ΠΈΡ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… ΠΊΠ²Π°Ρ€Ρ†Π΅Π²Ρ‹Ρ… пСсков Π΄ΠΎ слоТного химичСского осаТдСния ΠΈΠ· Π³Π°Π·ΠΎΠ²ΠΎΠΉ Ρ„Π°Π·Ρ‹. Π’Ρ‹Π±ΠΎΡ€ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Π° зависит ΠΎΡ‚ Ρ‚Ρ€Π΅Π±ΡƒΠ΅ΠΌΠΎΠΉ стСпСни чистоты ΠΈ дальнСйшСго примСнСния ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π°. Если для ΡΡ‚Ρ€ΠΎΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… смСсСй достаточно ΠΏΡ€ΠΈΡ€ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ пСска, Ρ‚ΠΎ для производства оптичСского стСкла ΠΈΠ»ΠΈ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄Π½ΠΈΠΊΠΎΠ² трСбуСтся высокочистый диоксид крСмния, ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΉ ΠΏΠΎ спСцифичСским тСхнологиям.

ΠŸΡ€ΠΈΡ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Π΅ источники ΠΈ мСханичСскоС ΠΎΠ±ΠΎΠ³Π°Ρ‰Π΅Π½ΠΈΠ΅

НаиболСС простым ΠΈ экономичСски Π²Ρ‹Π³ΠΎΠ΄Π½Ρ‹ΠΌ способом получСния оксида крСмния являСтся Π΄ΠΎΠ±Ρ‹Ρ‡Π° ΠΈ ΠΏΠ΅Ρ€Π΅Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠ° ΠΏΡ€ΠΈΡ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… пСсчаников. Π’ этом случаС процСсс сводится ΠΊ физичСскому Ρ€Π°Π·Π΄Π΅Π»Π΅Π½ΠΈΡŽ, Π° Π½Π΅ ΠΊ химичСскому синтСзу. ΠšΠ»ΡŽΡ‡Π΅Π²Ρ‹ΠΌ этапом здСсь выступаСт гидроциклонная классификация, ΠΏΠΎΠ·Π²ΠΎΠ»ΡΡŽΡ‰Π°Ρ ΠΎΡ‚Π΄Π΅Π»ΠΈΡ‚ΡŒ ΠΊΡ€ΡƒΠΏΠ½Ρ‹Π΅ примСси ΠΈ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡ΠΈΡ‚ΡŒ Ρ„Ρ€Π°ΠΊΡ†ΠΈΡŽ Π·Π°Π΄Π°Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Π°.

Однако ΠΏΡ€ΠΈΡ€ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ΅ ΡΡ‹Ρ€ΡŒΠ΅ Ρ€Π΅Π΄ΠΊΠΎ соотвСтствуСт трСбованиям высокой чистоты. Оно содСрТит Π²ΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π΅Π½ΠΈΡ ΠΏΠΎΠ»Π΅Π²Ρ‹Ρ… ΡˆΠΏΠ°Ρ‚ΠΎΠ², слюд ΠΈ органичСских примСсСй. Для устранСния этого нСдостатка примСняСтся Ρ„Π»ΠΎΡ‚Π°Ρ†ΠΈΠΎΠ½Π½ΠΎΠ΅ Ρ€Π°Π·Π΄Π΅Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ΅ позволяСт ΠΈΠ·Π²Π»Π΅Ρ‡ΡŒ ΠΊΠ²Π°Ρ€Ρ†Π΅Π²Ρ‹Π΅ Π·Π΅Ρ€Π½Π° ΠΈΠ· ΠΏΡƒΠ»ΡŒΠΏΡ‹, ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΡ ΡΠΏΠ΅Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ Ρ€Π΅Π°Π³Π΅Π½Ρ‚Ρ‹-собиратСли.

Π’Π°ΠΆΠ½ΠΎ ΡƒΡ‡ΠΈΡ‚Ρ‹Π²Π°Ρ‚ΡŒ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ Π΄Π°ΠΆΠ΅ послС Ρ‚Ρ‰Π°Ρ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ очистки ΠΏΡ€ΠΈΡ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹ΠΉ пСсок ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ ΡΠΎΠ΄Π΅Ρ€ΠΆΠ°Ρ‚ΡŒ слСды тяТСлых ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π»ΠΎΠ², Ρ‡Ρ‚ΠΎ Π΄Π΅Π»Π°Π΅Ρ‚ Π΅Π³ΠΎ Π½Π΅ΠΏΡ€ΠΈΠ³ΠΎΠ΄Π½Ρ‹ΠΌ для Π½Π΅ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Ρ… высокотСхнологичных ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Π΅Π½ΠΈΠΉ. ΠŸΠΎΡΡ‚ΠΎΠΌΡƒ Π΄Π°Π½Π½Ρ‹ΠΉ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ Ρ‡Π°Ρ‰Π΅ всСго ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΠ΅Ρ‚ΡΡ для производства стСкла, ΠΊΠ΅Ρ€Π°ΠΌΠΈΠΊΠΈ ΠΈ Π»ΠΈΡ‚Π΅ΠΉΠ½Ρ‹Ρ… Ρ„ΠΎΡ€ΠΌ, Π³Π΄Π΅ допустимы нСбольшиС отклонСния Π² химичСском составС.

Π₯имичСскиС ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Ρ‹ синтСза ΠΈΠ· растворов

ΠŸΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ Π°ΠΌΠΎΡ€Ρ„Π½ΠΎΠ³ΠΎ диоксида крСмния высокой чистоты часто осущСствляСтся ΠΏΡƒΡ‚Π΅ΠΌ химичСского осаТдСния ΠΈΠ· Π²ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… растворов солСй крСмния. Π­Ρ‚ΠΎΡ‚ процСсс позволяСт Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΎ ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€ частиц ΠΈ ΠΈΡ… распрСдСлСниС ΠΏΠΎ Π΄ΠΈΠ°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€Ρƒ. Основой Ρ‚Π΅Ρ…Π½ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΠΈ слуТит рСакция ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ ΠΆΠΈΠ΄ΠΊΠΈΠΌ стСклом (силикат-Π½Π°Ρ‚Ρ€ΠΈΠ΅ΠΌ) ΠΈ ΠΌΠΈΠ½Π΅Ρ€Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΌΠΈ кислотами, Ρ‡Π°Ρ‰Π΅ всСго сСрной ΠΈΠ»ΠΈ соляной.

ΠšΡ€ΠΈΡ‚ΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΠΈΠΌ ΠΏΠ°Ρ€Π°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΎΠΌ здСсь являСтся pH-срСда ΠΈ ΡΠΊΠΎΡ€ΠΎΡΡ‚ΡŒ ΠΏΠ΅Ρ€Π΅ΠΌΠ΅ΡˆΠΈΠ²Π°Π½ΠΈΡ Ρ€Π΅Π°ΠΊΡ†ΠΈΠΎΠ½Π½ΠΎΠΉ смСси. ИзмСнСниС этих ΠΏΠΎΠΊΠ°Π·Π°Ρ‚Π΅Π»Π΅ΠΉ Π½Π°ΠΏΡ€ΡΠΌΡƒΡŽ влияСт Π½Π° структуру ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΡƒΡŽΡ‰Π΅Π³ΠΎΡΡ осадка: ΠΎΡ‚ ΠΏΠ»ΠΎΡ‚Π½Ρ‹Ρ… сфСричСских частиц Π΄ΠΎ Ρ€Ρ‹Ρ…Π»Ρ‹Ρ… Π°Π³Ρ€Π΅Π³Π°Ρ‚ΠΎΠ². РСакция Π³ΠΈΠ΄Ρ€ΠΎΠ»ΠΈΠ·Π° ΠΏΡ€ΠΎΡ‚Π΅ΠΊΠ°Π΅Ρ‚ ΠΏΠΎ ΡƒΡ€Π°Π²Π½Π΅Π½ΠΈΡŽ: Na2SiO3 + H2SO4 β†’ SiO2↓ + Na2SO4 + H2O.

⚠️ Π’Π½ΠΈΠΌΠ°Π½ΠΈΠ΅: ΠΠ΅ΠΏΡ€Π°Π²ΠΈΠ»ΡŒΠ½Π°Ρ Π΄ΠΎΠ·ΠΈΡ€ΠΎΠ²ΠΊΠ° кислоты ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ привСсти ΠΊ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΡŽ гСля вмСсто осадка, Ρ‡Ρ‚ΠΎ сущСствСнно услоТнит процСсс Ρ„ΠΈΠ»ΡŒΡ‚Ρ€Π°Ρ†ΠΈΠΈ ΠΈ ΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ‹Π²ΠΊΠΈ ΠΏΡ€ΠΎΠ΄ΡƒΠΊΡ‚Π°.

ПослС осаТдСния ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΉ осадок подвСргаСтся ΠΌΠ½ΠΎΠ³ΠΎΠΊΡ€Π°Ρ‚Π½ΠΎΠΉ ΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ‹Π²ΠΊΠ΅ для удалСния ΠΏΠΎΠ±ΠΎΡ‡Π½Ρ‹Ρ… солСй натрия. Π­Ρ‚ΠΎΡ‚ этап являСтся Π½Π°ΠΈΠ±ΠΎΠ»Π΅Π΅ Ρ‚Ρ€ΡƒΠ΄ΠΎΠ΅ΠΌΠΊΠΈΠΌ, Ρ‚Π°ΠΊ ΠΊΠ°ΠΊ остатки солСй ΠΌΠΎΠ³ΡƒΡ‚ ΠΎΡ‚Ρ€ΠΈΡ†Π°Ρ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ ΡΠΊΠ°Π·Π°Ρ‚ΡŒΡΡ Π½Π° тСрмостойкости ΠΊΠΎΠ½Π΅Ρ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π°. Часто ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΠ΅Ρ‚ΡΡ процСсс ΠΈΠΎΠ½Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΎΠ±ΠΌΠ΅Π½Π° для Π³Π»ΡƒΠ±ΠΎΠΊΠΎΠΉ очистки суспСнзии ΠΏΠ΅Ρ€Π΅Π΄ ΡΡƒΡˆΠΊΠΎΠΉ.

Π“Π°Π·ΠΎΡ„Π°Π·Π½Ρ‹ΠΉ синтСз (тСрмичСский ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄)

Для получСния ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Ρ€Π°Ρ‡ΠΈΡΡ‚ΠΎΠ³ΠΎ ΠΏΠΈΡ€ΠΎΠ³Π΅Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ диоксида крСмния примСняСтся ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ сТигания хлорсодСрТащих соСдинСний крСмния Π² атмосфСрС Π²ΠΎΠ΄ΠΎΡ€ΠΎΠ΄Π°. Π­Ρ‚ΠΎΡ‚ процСсс происходит ΠΏΡ€ΠΈ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π°Ρ…, ΠΏΡ€Π΅Π²Ρ‹ΡˆΠ°ΡŽΡ‰ΠΈΡ… 1000Β°C, Ρ‡Ρ‚ΠΎ обСспСчиваСт ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅ частиц Π½Π°Π½ΠΎΡ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΌΠ°ΡΡˆΡ‚Π°Π±Π°. ВСхнология позволяСт ΠΈΡΠΊΠ»ΡŽΡ‡ΠΈΡ‚ΡŒ присутствиС посторонних ΠΈΠΎΠ½ΠΎΠ² ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π»ΠΎΠ², ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ Π½Π΅ΠΈΠ·Π±Π΅ΠΆΠ½Ρ‹ Π² Π²ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… растворах.

РСакция происходит Π² ΠΏΠ»Π°ΠΌΠ΅Π½ΠΈ Π³ΠΎΡ€Π΅Π»ΠΊΠΈ, Π³Π΄Π΅ ΠΏΠ°Ρ€Ρ‹ хлористого крСмния (SiCl4) ΠΎΠΊΠΈΡΠ»ΡΡŽΡ‚ΡΡ. ΠŸΡ€ΠΎΠ΄ΡƒΠΊΡ‚ΠΎΠΌ Ρ€Π΅Π°ΠΊΡ†ΠΈΠΈ являСтся тонкодиспСрсный Π±Π΅Π»Ρ‹ΠΉ ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΎΠΊ с ΠΎΠ³Ρ€ΠΎΠΌΠ½ΠΎΠΉ ΡƒΠ΄Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ. Π‘ΠΊΠΎΡ€ΠΎΡΡ‚ΡŒ охлаТдСния Π³Π°Π·ΠΎΠ²ΠΎΠ³ΠΎ ΠΏΠΎΡ‚ΠΎΠΊΠ° опрСдСляСт ΡΡ‚Π΅ΠΏΠ΅Π½ΡŒ Π°Π³Ρ€Π΅Π³Π°Ρ†ΠΈΠΈ частиц ΠΈ ΠΈΡ… ΠΊΠΎΠ½Π΅Ρ‡Π½Ρ‹Π΅ рСологичСскиС свойства.

πŸ“Š Для ΠΊΠ°ΠΊΠΈΡ… Ρ†Π΅Π»Π΅ΠΉ Π²Ρ‹ Ρ‡Π°Ρ‰Π΅ всСго ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΠ΅Ρ‚Π΅ диоксид крСмния?
ΠœΠ΅Ρ‚Π°Π»Π»ΡƒΡ€Π³ΠΈΡ/Π»ΠΈΡ‚ΡŒΠ΅
ΠŸΡ€ΠΎΠΈΠ·Π²ΠΎΠ΄ΡΡ‚Π²ΠΎ стСкла
Π₯имичСская ΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ‹ΡˆΠ»Π΅Π½Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ
ИсслСдования/Π»Π°Π±ΠΎΡ€Π°Ρ‚ΠΎΡ€ΠΈΠΈ
Π”Ρ€ΡƒΠ³ΠΎΠ΅

Π“Π°Π·ΠΎΡ„Π°Π·Π½Ρ‹ΠΉ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ считаСтся Π½Π°ΠΈΠ±ΠΎΠ»Π΅Π΅ Π΄ΠΎΡ€ΠΎΠ³ΠΈΠΌ, Π½ΠΎ ΠΎΠ½ Π½Π΅Π·Π°ΠΌΠ΅Π½ΠΈΠΌ Π² производствС Таростойких ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ² ΠΈ элСктроники. Π’ ΠΎΡ‚Π»ΠΈΡ‡ΠΈΠ΅ ΠΎΡ‚ осадочных ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠ², здСсь отсутствуСт стадия ΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ‹Π²ΠΊΠΈ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ сниТаСт риск Π²Ρ‚ΠΎΡ€ΠΈΡ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎ загрязнСния. Однако ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΡŒ Π·Π° Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€ΠΎΠΉ ΠΏΠ»Π°ΠΌΠ΅Π½ΠΈ Ρ‚Ρ€Π΅Π±ΡƒΠ΅Ρ‚ наличия слоТного оборудования ΠΈ ΠΊΠ²Π°Π»ΠΈΡ„ΠΈΡ†ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ пСрсонала.

ΠŸΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΈΠ· силицидов ΠΈ крСмния

Π’ мСталлургичСской ΠΏΡ€Π°ΠΊΡ‚ΠΈΠΊΠ΅ ΠΈΠ½ΠΎΠ³Π΄Π° Π²ΠΎΠ·Π½ΠΈΠΊΠ°Π΅Ρ‚ Π½Π΅ΠΎΠ±Ρ…ΠΎΠ΄ΠΈΠΌΠΎΡΡ‚ΡŒ получСния диоксида крСмния нСпосрСдствСнно Π² расплавС ΠΈΠ»ΠΈ ΠΊΠ°ΠΊ ΠΏΡ€ΠΎΠΌΠ΅ΠΆΡƒΡ‚ΠΎΡ‡Π½Ρ‹ΠΉ ΠΏΡ€ΠΎΠ΄ΡƒΠΊΡ‚ ΠΏΡ€ΠΈ ΠΏΠ΅Ρ€Π΅Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠ΅ шлама. ΠžΡ‡ΠΈΡΡ‚ΠΊΠ° крСмния ΠΎΡ‚ примСсСй часто сопровоТдаСтся окислСниСм повСрхностного слоя. Π­Ρ‚ΠΎΡ‚ процСсс ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ Ρ€Π°ΡΡΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΠ²Π°Ρ‚ΡŒ ΠΊΠ°ΠΊ локальноС ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ SiO2 Π² условиях высокотСмпСратурной ΠΏΠ΅Ρ‡ΠΈ.

ΠŸΡ€ΠΈ взаимодСйствии мСталличСского крСмния с кислородом ΠΈΠ»ΠΈ водяным ΠΏΠ°Ρ€ΠΎΠΌ образуСтся плотная оксидная ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠ°. Π’ зависимости ΠΎΡ‚ условий процСсса (Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π°, Π΄Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅), структура этой ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠΈ ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ Π²Π°Ρ€ΡŒΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒΡΡ ΠΎΡ‚ Π°ΠΌΠΎΡ€Ρ„Π½ΠΎΠΉ Π΄ΠΎ кристалличСской. Π­Ρ‚ΠΎ свойство Π°ΠΊΡ‚ΠΈΠ²Π½ΠΎ ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΠ΅Ρ‚ΡΡ ΠΏΡ€ΠΈ создании Π·Π°Ρ‰ΠΈΡ‚Π½Ρ‹Ρ… ΠΏΠΎΠΊΡ€Ρ‹Ρ‚ΠΈΠΉ для тСрмостойких сплавов.

БпСцифичСским ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ являСтся тСрмичСскоС Ρ€Π°Π·Π»ΠΎΠΆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ силицидов ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π»ΠΎΠ² Π² Π²Π°ΠΊΡƒΡƒΠΌΠ΅. ΠŸΡ€ΠΈ Π½Π°Π³Ρ€Π΅Π²Π°Π½ΠΈΠΈ Π΄ΠΎ высоких Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€ силициды Ρ€Π°ΡΠΏΠ°Π΄Π°ΡŽΡ‚ΡΡ, выдСляя ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½ΠΈΠΉ, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹ΠΉ Π·Π°Ρ‚Π΅ΠΌ окисляСтся. Π”Π°Π½Π½Ρ‹ΠΉ способ позволяСт ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°Ρ‚ΡŒ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π» с ΡƒΠ½ΠΈΠΊΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ кристалличСской Ρ€Π΅ΡˆΠ΅Ρ‚ΠΊΠΎΠΉ, подходящСй для примСнСния Π² аэрокосмичСской отрасли.

ΠžΡ‡ΠΈΡΡ‚ΠΊΠ° ΠΈ кристаллизация ΠΊΠ²Π°Ρ€Ρ†Π°

Если Ρ†Π΅Π»ΡŒΡŽ являСтся ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ кристалличСского ΠΊΠ²Π°Ρ€Ρ†Π° (Π° Π½Π΅ Π°ΠΌΠΎΡ€Ρ„Π½ΠΎΠ³ΠΎ пСска), процСсс Π·Π½Π°Ρ‡ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ услоТняСтся. Π‘Ρ‹Ρ€ΡŒΠ΅ΠΌ здСсь слуТат ΠΏΡ€ΠΈΡ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Π΅ кристаллы, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ ΠΏΠΎΠ΄Π²Π΅Ρ€Π³Π°ΡŽΡ‚ΡΡ многоэтапной очисткС. Π˜ΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΡŽΡ‚ΡΡ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Ρ‹ ΠΌΠ°Π³Π½ΠΈΡ‚Π½ΠΎΠΉ сСпарации для удалСния Ρ„Π΅Ρ€Ρ€ΠΎΠΌΠ°Π³Π½ΠΈΡ‚Π½Ρ‹Ρ… примСсСй ΠΈ Π³Ρ€Π°Π²ΠΈΡ‚Π°Ρ†ΠΈΠΎΠ½Π½ΠΎΠ³ΠΎ раздСлСния ΠΏΠΎ плотности.

ОсобоС Π²Π½ΠΈΠΌΠ°Π½ΠΈΠ΅ удСляСтся ΡƒΠ΄Π°Π»Π΅Π½ΠΈΡŽ Π²ΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π΅Π½ΠΈΠΉ, располоТСнных Π²Π½ΡƒΡ‚Ρ€ΠΈ кристалличСской Ρ€Π΅ΡˆΠ΅Ρ‚ΠΊΠΈ. Для этого ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Π½ΡΡŽΡ‚ΡΡ химичСскиС Ρ‚Ρ€Π°Π²ΠΈΡ‚Π΅Π»ΠΈ, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ Ρ€Π°ΡΡ‚Π²ΠΎΡ€ΡΡŽΡ‚ Π²ΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π΅Π½ΠΈΡ, Π½Π΅ затрагивая основной ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π». Π­Ρ‚ΠΎΡ‚ процСсс Ρ‚Ρ€Π΅Π±ΡƒΠ΅Ρ‚ Ρ‚ΠΎΡ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΏΠΎΠ΄Π±ΠΎΡ€Π° ΠΊΠΎΠ½Ρ†Π΅Π½Ρ‚Ρ€Π°Ρ†ΠΈΠΈ Ρ€Π΅Π°Π³Π΅Π½Ρ‚ΠΎΠ² ΠΈ Π²Ρ€Π΅ΠΌΠ΅Π½ΠΈ Π²Ρ‹Π΄Π΅Ρ€ΠΆΠΊΠΈ.

ΠœΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ получСния Π‘Ρ‚Π΅ΠΏΠ΅Π½ΡŒ чистоты (%) Π€ΠΎΡ€ΠΌΠ° частиц ОсновноС ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Π΅Π½ΠΈΠ΅
ΠœΠ΅Ρ…Π°Π½ΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΠΎΠ΅ ΠΎΠ±ΠΎΠ³Π°Ρ‰Π΅Π½ΠΈΠ΅ 95-99 НСравномСрная, угловатая Π‘Ρ‚Π΅ΠΊΠ»ΠΎ, Π»ΠΈΡ‚ΡŒΠ΅, Π±Π΅Ρ‚ΠΎΠ½
ОсаТдСниС ΠΈΠ· раствора 99.5-99.9 БфСричСская, Π°Π³Π»ΠΎΠΌΠ΅Ρ€Π°Ρ‚Ρ‹ Π Π΅Π·ΠΈΠ½Π°, пластмассы, краски
Π“Π°Π·ΠΎΡ„Π°Π·Π½Ρ‹ΠΉ синтСз 99.9-99.99 Наночастицы, Π΄Π΅Π½Π΄Ρ€ΠΈΡ‚Ρ‹ Π­Π»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΠ½ΠΈΠΊΠ°, ΠΎΠΏΡ‚ΠΈΠΊΠ°
ΠŸΠ΅Ρ€Π΅ΠΊΡ€ΠΈΡΡ‚Π°Π»Π»ΠΈΠ·Π°Ρ†ΠΈΡ 99.999+ ΠœΠΎΠ½ΠΎΠΊΡ€ΠΈΡΡ‚Π°Π»Π»Ρ‹ ΠžΠΏΡ‚ΠΎΠ²ΠΎΠ»ΠΎΠΊΠ½ΠΎ, Π»Π°Π·Π΅Ρ€Ρ‹

ВлияниС ΠΏΠ°Ρ€Π°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΎΠ² синтСза Π½Π° свойства ΠΏΡ€ΠΎΠ΄ΡƒΠΊΡ‚Π°

ΠšΠ°Ρ‡Π΅ΡΡ‚Π²ΠΎ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°Π΅ΠΌΠΎΠ³ΠΎ диоксида крСмния Π½Π°ΠΏΡ€ΡΠΌΡƒΡŽ зависит ΠΎΡ‚ ΠΏΠ°Ρ€Π°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΎΠ² тСхнологичСского процСсса. Π’Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π°, Π΄Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΈ врСмя Ρ€Π΅Π°ΠΊΡ†ΠΈΠΈ Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΠΈΡ€ΡƒΡŽΡ‚ Π½Π΅ Ρ‚ΠΎΠ»ΡŒΠΊΠΎ Ρ…ΠΈΠΌΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΡƒΡŽ чистоту, Π½ΠΎ ΠΈ ΠΌΠΎΡ€Ρ„ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΡŽ частиц. НапримСр, ΠΏΡ€ΠΈ Π³Π°Π·ΠΎΡ„Π°Π·Π½ΠΎΠΌ синтСзС ΠΏΠΎΠ²Ρ‹ΡˆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Ρ‹ ΠΏΡ€ΠΈΠ²ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚ ΠΊ ΡƒΠ²Π΅Π»ΠΈΡ‡Π΅Π½ΠΈΡŽ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Π° ΠΏΠ΅Ρ€Π²ΠΈΡ‡Π½Ρ‹Ρ… частиц ΠΈ сниТСнию ΡƒΠ΄Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ повСрхности.

Π’Π°ΠΆΠ½Ρ‹ΠΌ Ρ„Π°ΠΊΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠΌ являСтся ΡΠΊΠΎΡ€ΠΎΡΡ‚ΡŒ охлаТдСния, которая опрСдСляСт Ρ„Π°Π·ΠΎΠ²Ρ‹ΠΉ состав ΠΏΡ€ΠΎΠ΄ΡƒΠΊΡ‚Π°. МСдлСнноС ΠΎΡ…Π»Π°ΠΆΠ΄Π΅Π½ΠΈΠ΅ способствуСт ΠΏΠ΅Ρ€Π΅Ρ…ΠΎΠ΄Ρƒ Π°ΠΌΠΎΡ€Ρ„Π½ΠΎΠ³ΠΎ состояния Π² кристалличСскоС (Ρ‚Ρ€ΠΈΠ΄ΠΈΠΌΠΈΡ‚ ΠΈΠ»ΠΈ кристобалит), Ρ‡Ρ‚ΠΎ мСняСт физичСскиС свойства ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π°. БыстроС ΠΎΡ…Π»Π°ΠΆΠ΄Π΅Π½ΠΈΠ΅, Π½Π°ΠΏΡ€ΠΎΡ‚ΠΈΠ², фиксируСт Π°ΠΌΠΎΡ€Ρ„Π½ΡƒΡŽ структуру, Π½Π΅ΠΎΠ±Ρ…ΠΎΠ΄ΠΈΠΌΡƒΡŽ для ΠΌΠ½ΠΎΠ³ΠΈΡ… химичСских ΠΏΡ€ΠΈΠ»ΠΎΠΆΠ΅Π½ΠΈΠΉ.

⚠️ Π’Π½ΠΈΠΌΠ°Π½ΠΈΠ΅: ΠŸΡ€ΠΈ Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚Π΅ с высокотСмпСратурными Ρ€Π΅Π°ΠΊΡ‚ΠΎΡ€Π°ΠΌΠΈ Π½Π΅ΠΎΠ±Ρ…ΠΎΠ΄ΠΈΠΌΠΎ строго ΡΠ»Π΅Π΄ΠΈΡ‚ΡŒ Π·Π° Ρ†Π΅Π»ΠΎΡΡ‚Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ ΠΎΠ³Π½Π΅ΡƒΠΏΠΎΡ€Π½ΠΎΠΉ Ρ„ΡƒΡ‚Π΅Ρ€ΠΎΠ²ΠΊΠΈ, Ρ‚Π°ΠΊ ΠΊΠ°ΠΊ Π΅Π΅ Ρ€Π°Π·Ρ€ΡƒΡˆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ привСсти ΠΊ Π·Π°Π³Ρ€ΡΠ·Π½Π΅Π½ΠΈΡŽ ΠΏΡ€ΠΎΠ΄ΡƒΠΊΡ‚Π° оксидами алюминия ΠΈ ΠΆΠ΅Π»Π΅Π·Π°.

НСобходимо Ρ‚Π°ΠΊΠΆΠ΅ ΡƒΡ‡ΠΈΡ‚Ρ‹Π²Π°Ρ‚ΡŒ влияниС Π³Π°Π·ΠΎΠ²ΠΎΠ³ΠΎ окруТСния Π½Π° процСсс окислСния. ΠŸΡ€ΠΈΡΡƒΡ‚ΡΡ‚Π²ΠΈΠ΅ Π²Π»Π°Π³ΠΈ Π² Ρ€Π΅Π°ΠΊΡ†ΠΈΠΎΠ½Π½ΠΎΠΉ ΠΊΠ°ΠΌΠ΅Ρ€Π΅ ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ ΠΊΠ°Ρ‚Π°Π»ΠΈΠ·ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ процСссы Π°Π³Π»ΠΎΠΌΠ΅Ρ€Π°Ρ†ΠΈΠΈ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ затрудняСт Π΄Π°Π»ΡŒΠ½Π΅ΠΉΡˆΡƒΡŽ Π΄ΠΈΡΠΏΠ΅Ρ€Π³Π°Ρ†ΠΈΡŽ ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΊΠ°. ΠŸΠΎΡΡ‚ΠΎΠΌΡƒ ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΡŒ влаТности входящих Π³Π°Π·ΠΎΠ² являСтся ΠΎΠ±ΡΠ·Π°Ρ‚Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΌ этапом ΠΏΠΎΠ΄Π³ΠΎΡ‚ΠΎΠ²ΠΊΠΈ.

ВСхнологичСскиС риски ΠΈ ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΡŒ качСства

Π’ процСссС производства диоксида крСмния сущСствуСт ряд рисков, связанных с загрязнСниСм оборудования ΠΈ ΡΡ‹Ρ€ΡŒΡ. Π”Π°ΠΆΠ΅ микроскопичСскиС частицы ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π»Π°, ΠΏΠΎΠΏΠ°Π΄Π°ΡŽΡ‰ΠΈΠ΅ Π² Ρ€Π΅Π°ΠΊΡ‚ΠΎΡ€ ΠΈΠ·-Π·Π° износа лопастСй мСшалки, ΠΌΠΎΠ³ΡƒΡ‚ ΡΡ‚Π°Ρ‚ΡŒ Ρ†Π΅Π½Ρ‚Ρ€Π°ΠΌΠΈ кристаллизации ΠΈ ΠΈΡΠΏΠΎΡ€Ρ‚ΠΈΡ‚ΡŒ ΠΏΠ°Ρ€Ρ‚ΠΈΡŽ Π°ΠΌΠΎΡ€Ρ„Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΊΠ°.

Для ΠΌΠΈΠ½ΠΈΠΌΠΈΠ·Π°Ρ†ΠΈΠΈ этих рисков ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΡŽΡ‚ΡΡ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Ρ‹, ΠΈΠ½Π΅Ρ€Ρ‚Π½Ρ‹Π΅ ΠΏΠΎ ΠΎΡ‚Π½ΠΎΡˆΠ΅Π½ΠΈΡŽ ΠΊ ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½Π΅Π·Π΅ΠΌΡƒ, Π½Π°ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Ρ€, фторопласт ΠΈΠ»ΠΈ ΡΠΏΠ΅Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ сплавы. РСгулярный ΡΠΏΠ΅ΠΊΡ‚Ρ€Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΉ Π°Π½Π°Π»ΠΈΠ· ΠΏΡ€ΠΎΠΌΠ΅ΠΆΡƒΡ‚ΠΎΡ‡Π½Ρ‹Ρ… ΠΏΡ€ΠΎΠ΄ΡƒΠΊΡ‚ΠΎΠ² ΠΏΠΎΠΌΠΎΠ³Π°Π΅Ρ‚ воврСмя Π²Ρ‹ΡΠ²ΠΈΡ‚ΡŒ отклонСния Π² химичСском составС. Π’Π°ΠΊΠΆΠ΅ проводится ΠΌΠΎΠ½ΠΈΡ‚ΠΎΡ€ΠΈΠ½Π³ грануломСтричСского состава с использованиСм Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½Ρ‹Ρ… Π΄ΠΈΡ„Ρ€Π°ΠΊΡ‚ΠΎΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΎΠ².

ΠšΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΡŒ качСства Π½Π΅ ограничиваСтся Π»Π°Π±ΠΎΡ€Π°Ρ‚ΠΎΡ€Π½Ρ‹ΠΌΠΈ испытаниями. Π‘ΠΎΠ²Ρ€Π΅ΠΌΠ΅Π½Π½Ρ‹Π΅ прСдприятия Π²Π½Π΅Π΄Ρ€ΡΡŽΡ‚ систСмы автоматичСского рСгулирования ΠΏΠ°Ρ€Π°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΎΠ² синтСза, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ Π² Ρ€Π΅Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΌ Π²Ρ€Π΅ΠΌΠ΅Π½ΠΈ ΠΊΠΎΡ€Ρ€Π΅ΠΊΡ‚ΠΈΡ€ΡƒΡŽΡ‚ ΠΏΠΎΠ΄Π°Ρ‡Ρƒ Ρ€Π΅Π°Π³Π΅Π½Ρ‚ΠΎΠ². Π­Ρ‚ΠΎ позволяСт ΠΏΠΎΠ΄Π΄Π΅Ρ€ΠΆΠΈΠ²Π°Ρ‚ΡŒ ΡΡ‚Π°Π±ΠΈΠ»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ свойств ΠΏΡ€ΠΎΠ΄ΡƒΠΊΡ†ΠΈΠΈ ΠΎΡ‚ ΠΏΠ°Ρ€Ρ‚ΠΈΠΈ ΠΊ ΠΏΠ°Ρ€Ρ‚ΠΈΠΈ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ критичСски Π²Π°ΠΆΠ½ΠΎ для Π·Π°ΠΊΠ°Π·Ρ‡ΠΈΠΊΠΎΠ² Π² высокотСхнологичных отраслях.

β˜‘οΈ ΠšΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΡŒ качСства ΠΏΡ€ΠΈ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠΈ SiO2

Π’Ρ‹ΠΏΠΎΠ»Π½Π΅Π½ΠΎ: 0 / 5
πŸ’‘

Для ΠΏΠΎΠ²Ρ‹ΡˆΠ΅Π½ΠΈΡ чистоты ΠΏΡ€ΠΎΠ΄ΡƒΠΊΡ‚Π° ΠΏΡ€ΠΈ осаТдСнии ΠΈΠ· растворов рСкомСндуСтся ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ Π΄Π΅ΠΈΠΎΠ½ΠΈΠ·ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Π½ΡƒΡŽ Π²ΠΎΠ΄Ρƒ вмСсто дистиллированной, Ρ‚Π°ΠΊ ΠΊΠ°ΠΊ ΠΎΠ½Π° содСрТит мСньшС растворСнных солСй, Π²Π»ΠΈΡΡŽΡ‰ΠΈΡ… Π½Π° ΠΊΠΈΠ½Π΅Ρ‚ΠΈΠΊΡƒ Ρ€Π΅Π°ΠΊΡ†ΠΈΠΈ.

ВлияниС кристалличСской структуры Π½Π° тСрмичСскоС Ρ€Π°ΡΡˆΠΈΡ€Π΅Π½ΠΈΠ΅

Аморфный диоксид крСмния ΠΈΠΌΠ΅Π΅Ρ‚ Π½ΠΈΠ·ΠΊΠΈΠΉ коэффициСнт тСрмичСского Ρ€Π°ΡΡˆΠΈΡ€Π΅Π½ΠΈΡ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ Π΄Π΅Π»Π°Π΅Ρ‚ Π΅Π³ΠΎ ΠΈΠ΄Π΅Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΌ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠΌ для оптичСских Π»ΠΈΠ½Π·, ΠΏΠΎΠ΄Π²Π΅Ρ€Π³Π°ΡŽΡ‰ΠΈΡ…ΡΡ Ρ€Π΅Π·ΠΊΠΈΠΌ ΠΏΠ΅Ρ€Π΅ΠΏΠ°Π΄Π°ΠΌ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€. ΠšΡ€ΠΈΡΡ‚Π°Π»Π»ΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΠΈΠ΅ Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΡ‹ (ΠΊΠ²Π°Ρ€Ρ†) ΠΏΡ€ΠΈ Π½Π°Π³Ρ€Π΅Π²Π°Π½ΠΈΠΈ Π·Π½Π°Ρ‡ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ ΠΌΠ΅Π½ΡΡŽΡ‚ объСм, Ρ‡Ρ‚ΠΎ ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ привСсти ΠΊ Ρ€Π°ΡΡ‚Ρ€Π΅ΡΠΊΠΈΠ²Π°Π½ΠΈΡŽ ΠΈΠ·Π΄Π΅Π»ΠΈΠΉ.

ΠŸΠ΅Ρ€ΡΠΏΠ΅ΠΊΡ‚ΠΈΠ²Ρ‹ развития Ρ‚Π΅Ρ…Π½ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΠΉ синтСза

БоврСмСнная Π½Π°ΡƒΠΊΠ° ΠΈΡ‰Π΅Ρ‚ ΠΏΡƒΡ‚ΠΈ сниТСния энСргозатрат ΠΏΡ€ΠΈ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠΈ диоксида крСмния. Одной ΠΈΠ· пСрспСктивных Π½Π°ΠΏΡ€Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠΉ являСтся использованиС ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ»Π½ΠΎΠ²ΠΎΠ³ΠΎ Π½Π°Π³Ρ€Π΅Π²Π°, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹ΠΉ обСспСчиваСт Π±ΠΎΠ»Π΅Π΅ Ρ€Π°Π²Π½ΠΎΠΌΠ΅Ρ€Π½ΠΎΠ΅ распрСдСлСниС Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Ρ‹ Π² Ρ€Π΅Π°ΠΊΡ†ΠΈΠΎΠ½Π½ΠΎΠΉ Π·ΠΎΠ½Π΅. Π­Ρ‚ΠΎ позволяСт ΡΠΎΠΊΡ€Π°Ρ‚ΠΈΡ‚ΡŒ врСмя Ρ€Π΅Π°ΠΊΡ†ΠΈΠΈ ΠΈ ΠΏΠΎΠ²Ρ‹ΡΠΈΡ‚ΡŒ Π²Ρ‹Ρ…ΠΎΠ΄ Ρ†Π΅Π»Π΅Π²ΠΎΠ³ΠΎ ΠΏΡ€ΠΎΠ΄ΡƒΠΊΡ‚Π°.

Π’Π°ΠΊΠΆΠ΅ Ρ€Π°Π·Ρ€Π°Π±Π°Ρ‚Ρ‹Π²Π°ΡŽΡ‚ΡΡ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Ρ‹ "Π·Π΅Π»Π΅Π½ΠΎΠΉ Ρ…ΠΈΠΌΠΈΠΈ", ΠΈΡΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π°ΡŽΡ‰ΠΈΠ΅ использованиС агрСссивных кислот ΠΈ Ρ‰Π΅Π»ΠΎΡ‡Π΅ΠΉ. ВмСсто Π½ΠΈΡ… ΠΏΡ€Π΅Π΄Π»Π°Π³Π°ΡŽΡ‚ΡΡ биологичСскиС ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Ρ‹ осаТдСния с использованиСм ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠΎΡ€Π³Π°Π½ΠΈΠ·ΠΌΠΎΠ², способных ΡΠΈΠ½Ρ‚Π΅Π·ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½Π΅Π·Π΅ΠΌ ΠΈΠ· растворов силикатов. Π’Π°ΠΊΠΈΠ΅ ΠΏΠΎΠ΄Ρ…ΠΎΠ΄Ρ‹ ΠΌΠΎΠ³ΡƒΡ‚ Ρ€Π΅Π²ΠΎΠ»ΡŽΡ†ΠΈΠΎΠ½ΠΈΠ·ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ экологичСский ΠΏΡ€ΠΎΡ„ΠΈΠ»ΡŒ производства.

Π’Π°ΠΆΠ½ΠΎ ΠΎΡ‚ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΈΡ‚ΡŒ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ ΠΏΠ΅Ρ€Π΅Ρ…ΠΎΠ΄ ΠΊ Π½ΠΎΠ²Ρ‹ΠΌ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Π°ΠΌ Ρ‚Ρ€Π΅Π±ΡƒΠ΅Ρ‚ Ρ‚Ρ‰Π°Ρ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ Π²Π°Π»ΠΈΠ΄Π°Ρ†ΠΈΠΈ ΠΈ подтвСрТдСния бСзопасности. Π›ΡŽΠ±Ρ‹Π΅ измСнСния Π² Ρ‚Π΅Ρ…Π½ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΠΈ Π΄ΠΎΠ»ΠΆΠ½Ρ‹ Π±Ρ‹Ρ‚ΡŒ ΠΏΠΎΠ΄ΠΊΡ€Π΅ΠΏΠ»Π΅Π½Ρ‹ Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Π°ΠΌΠΈ долгосрочных испытаний, ΠΏΠΎΠ΄Ρ‚Π²Π΅Ρ€ΠΆΠ΄Π°ΡŽΡ‰ΠΈΡ… ΡΡ‚Π°Π±ΠΈΠ»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ свойств ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°Π΅ΠΌΠΎΠ³ΠΎ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π°. ИспользованиС ΠΊΠ°Ρ‚Π°Π»ΠΈΠ·Π°Ρ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ² Π½Π° основС Ρ€Π΅Π΄ΠΊΠΎΠ·Π΅ΠΌΠ΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π»ΠΎΠ² позволяСт ΡΠ½ΠΈΠ·ΠΈΡ‚ΡŒ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Ρƒ синтСза Π½Π° 200-300 градусов Π±Π΅Π· ΠΏΠΎΡ‚Π΅Ρ€ΠΈ качСства ΠΏΡ€ΠΎΠ΄ΡƒΠΊΡ‚Π°.

πŸ’‘

Π’ΠΎΡ‡Π½Ρ‹ΠΉ ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΡŒ ΠΏΠ°Ρ€Π°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΎΠ² синтСза (Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π°, pH, ΡΠΊΠΎΡ€ΠΎΡΡ‚ΡŒ ΠΏΠ΅Ρ€Π΅ΠΌΠ΅ΡˆΠΈΠ²Π°Π½ΠΈΡ) являСтся ΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π΅Π²Ρ‹ΠΌ Ρ„Π°ΠΊΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠΌ, ΠΎΠΏΡ€Π΅Π΄Π΅Π»ΡΡŽΡ‰ΠΈΠΌ ΠΌΠΎΡ€Ρ„ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΡŽ ΠΈ чистоту ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°Π΅ΠΌΠΎΠ³ΠΎ диоксида крСмния.

Какой ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ получСния обСспСчиваСт ΠΌΠ°ΠΊΡΠΈΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½ΡƒΡŽ чистоту?

Π“Π°Π·ΠΎΡ„Π°Π·Π½Ρ‹ΠΉ синтСз (ΠΏΠΈΡ€ΠΎΠ»ΠΈΠ·) позволяСт ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°Ρ‚ΡŒ диоксид крСмния с чистотой Π΄ΠΎ 99.99%, Ρ‚Π°ΠΊ ΠΊΠ°ΠΊ ΠΈΡΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π°Π΅Ρ‚ ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Π°ΠΊΡ‚ с Π²ΠΎΠ΄Π½Ρ‹ΠΌΠΈ растворами ΠΈ мСталличСскими Смкостями, ΡΠ²Π»ΡΡŽΡ‰ΠΈΠΌΠΈΡΡ источниками примСсСй.

МоТно Π»ΠΈ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡ΠΈΡ‚ΡŒ диоксид крСмния Π² Π΄ΠΎΠΌΠ°ΡˆΠ½ΠΈΡ… условиях?

Π₯имичСскоС ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ чистого SiO2 Π² Π΄ΠΎΠΌΠ°ΡˆΠ½ΠΈΡ… условиях Π½Π΅Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ ΠΈΠ·-Π·Π° нСобходимости использования агрСссивных кислот, высоких Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€ ΠΈ слоТного оборудования для очистки. ΠŸΡ€ΠΈΡ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹ΠΉ ΠΊΠ²Π°Ρ€Ρ†Π΅Π²Ρ‹ΠΉ пСсок являСтся СдинствСнным доступным источником, Π½ΠΎ ΠΎΠ½ Π½Π΅ ΠΎΠ±Π»Π°Π΄Π°Π΅Ρ‚ химичСской чистотой синтСтичСских Π°Π½Π°Π»ΠΎΠ³ΠΎΠ².

Как ΠΎΡ‚Π»ΠΈΡ‡ΠΈΡ‚ΡŒ Π°ΠΌΠΎΡ€Ρ„Π½Ρ‹ΠΉ диоксид крСмния ΠΎΡ‚ кристалличСского?

Аморфный диоксид крСмния (Π½Π°ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Ρ€, ΠΏΠΈΡ€ΠΎΠ³Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΉ) прСдставляСт собой Π»Π΅Π³ΠΊΠΈΠΉ Π±Π΅Π»Ρ‹ΠΉ ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΎΠΊ с ΠΎΠ³Ρ€ΠΎΠΌΠ½ΠΎΠΉ ΡƒΠ΄Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ. ΠšΡ€ΠΈΡΡ‚Π°Π»Π»ΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΠΈΠΉ Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΡ‹ (ΠΊΠ²Π°Ρ€Ρ†, Ρ‚Ρ€ΠΈΠ΄ΠΈΠΌΠΈΡ‚) ΠΈΠΌΠ΅ΡŽΡ‚ Π±ΠΎΠ»Π΅Π΅ Π²Ρ‹ΡΠΎΠΊΡƒΡŽ ΠΏΠ»ΠΎΡ‚Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ, Ρ‚Π²Π΅Ρ€Π΄ΠΎΡΡ‚ΡŒ ΠΈ Ρ…Π°Ρ€Π°ΠΊΡ‚Π΅Ρ€Π½ΡƒΡŽ структуру, ΠΎΠΏΡ€Π΅Π΄Π΅Π»ΡΠ΅ΠΌΡƒΡŽ рСнтгСноструктурным Π°Π½Π°Π»ΠΈΠ·ΠΎΠΌ.

ВлияСт Π»ΠΈ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ получСния Π½Π° Ρ€Π°ΡΡ‚Π²ΠΎΡ€ΠΈΠΌΠΎΡΡ‚ΡŒ Π² кислотах?

Π”Π°, структура ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π° влияСт Π½Π° Π΅Π³ΠΎ Ρ…ΠΈΠΌΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΡƒΡŽ ΡΡ‚ΠΎΠΉΠΊΠΎΡΡ‚ΡŒ. Аморфный диоксид крСмния растворяСтся Π² ΠΏΠ»Π°Π²ΠΈΠΊΠΎΠ²ΠΎΠΉ кислотС быстрСС, Ρ‡Π΅ΠΌ кристалличСскиС Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΡ‹, ΠΈΠ·-Π·Π° мСньшСй плотности ΡƒΠΏΠ°ΠΊΠΎΠ²ΠΊΠΈ Π°Ρ‚ΠΎΠΌΠΎΠ² ΠΈ наличия Π΄Π΅Ρ„Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΠ² структуры.